数字集成电路设计

绪论

三步法

尺寸确定

设计方法学

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器件及反相器

MOS器件

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各种效应

  1. 体效应(Body Effect)

    VSB 影响阈值电压

    VT=VT0+γ(ΦS+VSBΦS)
  2. 沟道长度调制效应(长沟道器件)(对应 BJT 的 Early Effect)

    由于 VDS 的作用,有效沟道长度被调制,夹断点向源端移动,导致 ID 增加

    ID=ID(1+λVDS)

    λ 沟道长度调制系数

  3. 短沟道效应

    • 电场强度小:速率随电场强度成线性关系

    • 电场强度大:速率饱和(载流子碰撞—散射效应)

  4. 速率饱和效应

    未达到 VGSVT 时就出现提前饱和

    提前饱和,电流减小,电压的控制效果减小

  5. Drain-induced barrier lowering 漏端感应势垒降低(DIBL

    短沟道下,漏、源电场耦合,降低 PN 结势垒,VTH 降低

    危害:VDS 足够大时,D 和 S 可能短路

  6. 其他(详见器件物理)

    1. Velocity saturation
    2. Subthreshold conduction(亚阈值)
    3. Threshold variations
    4. Parasitic resistances
    5. Latch-up(闩锁效应)

复杂门

标准CMOS复杂门

逻辑努力

CMOS逻辑改进

标准CMOS逻辑改进

几种简化方案:

  1. 有比逻辑、NMOS逻辑

    • 管子数量少
    • 输入电容只有CMOS的一半
    • 有静态功耗

    电阻和耗尽型NMOS都不易生产

    伪NMOS逻辑(Pseudo NMOS):

    上拉是一个常导通的P,下拉是N网络

  2. 传输门电路(Transmission Gate)

    • CMOS:输入端只在栅上
    • 输入端同时驱动源/漏+栅
    • Pass Transistor (PT) Logic

      • 静态电路
      • N个晶体管而不是2N
      • 无静态功耗
      • 无比电路
      • 双向的 (Versus undirectional)
    • 传输管逻辑为非再生信号,无放大功能,信号越来越弱(利用INV再生)

    • 差分 Differential PT Logic (CPL)

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      • 结构一样,输入不同,为什么不用PMOS
      • 总是存在互补的输入、输出,对于复杂门有效减少管子,不需要 INV
      • 静态逻辑
      • 可模块化设计,拓扑逻辑相同,仅改变输入
      • 简单、快速(Assuming number of transistors in series is small)
      • 对于互补信号,布线开销小
      • 静态功耗问题:非全电压摆幅
    • 疑惑 Cascaded NMOS

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      • 对M1

        VAx>VBxVTH>0VAVx>VBVxVTH>0VDDVx>VDDVxVTH>00>VTH>VxVDDVx<VDDVTH
      • 对M2

        Vxy>VCyVTH>0VxVy>VCVyVTH>0Vx>VDDVTH>Vy
    • 解决静态功耗的措施

      1. Level Restorer

        引一个反馈来拉高 VoutVDD(有比)

      2. Multiple VT Transistors

        工艺解决:

        使用阈值接近0的晶体管,来消除阈值电压损失。

        会导致漏电功耗(亚阈值电流)。

      3. Transmission Gates (TGs)

        • 最常用的解决措施

        • 传输门(对管)

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        • 摆烂了

传输门逻辑改进

动态电路

动态电路设计

时序逻辑

静态时序电路 (Static Sequential Circuits)

Latches

D触发器(D FlipFlop)

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存储单元

动态时序电路

时序问题

异步电路

重点

三步法

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确定MOS管尺寸

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各种效应

由于VDS 的作用,有效沟道长度发生变化,夹断点向源端移动

ID=ID(1+λVDS)

$\lambda $ 为沟道长度调制系数

反相器的电压传输特性曲线(VTC)

PPT 2-04

反相器驱动例题

PPT 2-04

动态功耗

PPT 2-04

Pswitching=αCVDD2f

降低功耗的手段:降低四个分量

版图提电路

PPT 3-01

  1. 找栅和N+,P+(VDD—P管,GND—N管)

  2. 栅和有源区交叉点——晶体管

  3. 看连接关系(标准CMOS电路)

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    \text{V}_{\text{out1}}&=&\overline{(\text A+\text B)\cdot \text C}\\ \text{V}_{\text{out2}}&=&\overline {\text A}\cdot \overline {\text B}+ \overline {\text C}

Multi-Finger

PPT 3-01

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逻辑努力(待复习)

PPT 3-02

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传输门

PPT 4-02

动态门电路

PPT 5-01

静态门翻转概率:P=P0×P1

动态门翻转概率:P=P0=N0 (需要预充)

α 的角度来看,动态门功耗更高

时序电路

PPT 6-01

存储单元的分类

PPT 6-01

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时序电路分析

PPT 6-02

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时序问题实际情况

PPT 6-02

考虑最坏情况

译码器、多路选择器搭建

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存储器

PPT 8-01

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​ M1、M2、M3、M4构成双稳态电路,M5、M6为存取管(访问管)。

​ WL为字线,控制存取管的开关,

​ BL、BL为位线,控制数据的出入。

​ 读过程:首先将位线BL、BL预充到高电平,随后字线WL=1控制存取管打开,这时两条位线必有一条为高电平,另一条被拉到低电平,实现读操作。

​ 写过程:首先使一条位线为高电平,另一条位线为低电平,随后字线WL=1控制存取管打开,实现写操作。

​ 为了防止Q原本的0被改写为1,根据电阻分压的原理,可以推断出M1的电阻要尽量小一些,M5的电阻要尽量大一些,也就是说M1的宽长比必须大于M5的宽长比。(同理M3的宽长比必须大于M6的宽长比)

​ 为了确保Q能被改写(从1拉到0),根据电阻分压的原理,可以推断出M6的电阻要尽量小一些,M4的电阻要尽量大一些,也就是说M6的宽长比必须大于M4的宽长比。(同理M5的宽长比必须大于M2的宽长比)